वाष्प कक्ष हीटसिंक का कार्य सिद्धांत

    वाष्प कक्ष आमतौर पर दिखने में सपाट होता है, जिसके अंदर एक बंद गुहा और अंदर काम करने वाला माध्यम होता है। अलग-अलग उपयोग के अनुसार, केशिका संरचना हो सकती है या अंदर केशिका संरचना नहीं हो सकती है। जिस वातावरण में वाष्प कक्ष का उपयोग किया जाता है, उसके आधार पर आंतरिक कार्यशील माध्यम भिन्न होगा। भिगोने वाली प्लेट दो-आयामी विमान के साथ गर्मी फैलाती है, जिसमें गर्मी प्रवाहकत्त्व ट्यूब की तुलना में बेहतर विस्तार और गर्मी लंपटता क्षमता होती है जो एक-आयामी दिशा में गर्मी फैलाती है, तापमान वितरण को अधिक समान बना सकती है, और अधिक तापीय शक्ति ले सकती है।

वाष्प कक्ष का मुख्य कार्य ऊष्मा का संचालन करना है, जिससे ऊष्मा तेजी से फैलती है और उपकरण में एक समान हो जाती है, जिसे सोखने वाली प्लेट कहा जाता है। जब डिवाइस बड़ी मात्रा में गर्मी स्थानांतरित करता है, तो तापमान का अंतर भी बहुत छोटा होता है, जो लगभग आइसोथर्मल होता है, इसलिए इसे तापमान समकारी प्लेट कहा जाता है। वाष्प कक्ष दो आयामी विमान के साथ गर्मी फैलाता है, जिसमें बेहतर विस्तार और गर्मी होती है गर्मी चालन ट्यूब की तुलना में अपव्यय क्षमता जो एक आयामी दिशा में गर्मी फैलाती है, तापमान वितरण को अधिक समान बना सकती है, और अधिक तापीय शक्ति ले सकती है।

सामग्रियों के संदर्भ में, आमतौर पर उपयोग किए जाने वाले वाष्प कक्ष हैं: कॉपर वाष्प कक्ष, टाइटेनियमवाष्प कक्ष, एल्यूमीनियमवाष्प कक्ष, स्टेनलेस स्टीलवाष्प कक्ष, वगैरह

संरचनात्मक रूप से, इसे में विभाजित किया जा सकता है: केशिका संरचना और केशिका संरचना के बिना। वाष्प कक्ष केशिका संरचना के साथ sintered केशिका वाष्प कक्ष, अंडाकार में विभाजित किया जा सकता हैवाष्प कक्ष, बुना जालवाष्प कक्ष, फाइबरवाष्प कक्षऔर इसी तरह। गैर केशिका संरचनावाष्प कक्षगुरुत्वाकर्षण सहायता में विभाजित किया जा सकता हैवाष्प कक्ष, दोलनवाष्प कक्षऔर इसी तरह।

विभिन्न संरचनाओं के साथ वाष्प कक्ष का कार्य सिद्धांत भी भिन्न होता है। सबसे अधिक इस्तेमाल के लिएवाष्प कक्षकेशिका संरचना के साथ, केशिका संरचना आमतौर पर गुहा की आंतरिक सतह पर व्यवस्थित होती है। कक्ष में भरा कार्यशील तरल केशिका संरचना में केशिका बल की क्रिया के तहत बंद हो जाता है। केशिका संरचना के बिना एक गुहा को भाप गुहा कहा जाता है। जब ऊष्मा को शेल से वाष्पीकरण क्षेत्र की आंतरिक केशिका संरचना में प्रेषित किया जाता है, तो केशिका संरचना में काम करने वाला तरल कम निर्वात वातावरण में गर्म होने के बाद वाष्पित होने लगता है, ऊष्मा ऊर्जा को अवशोषित करता है और तेजी से फैलता है। वाष्प चरण का कार्यशील माध्यम जल्दी से पूरे गुहा को भर देता है। जब वाष्प चरण का कामकाजी माध्यम अपेक्षाकृत ठंडे क्षेत्र से संपर्क करता है, तो यह तरल में संघनित हो जाएगा और वाष्पीकरण के दौरान अवशोषित गर्मी को छोड़ देगा। संघनित कार्यशील तरल केशिका संरचना द्वारा गठित पाइप के माध्यम से वाष्पीकरण स्थान पर वापस आ जाएगा और वाष्पीकरण के लिए फिर से गर्मी को अवशोषित करेगा।

 विभिन्न संरचनाओं और प्रक्रियाओं वाले वाष्प कक्ष के अलग-अलग अनुप्रयोग हैं:

1. बेहतर तापीय चालकता वाले कॉपर वाष्प कक्ष का उपयोग आमतौर पर इलेक्ट्रॉनिक चिप्स के लिए किया जाता है।

2. विमानन उद्योग आमतौर पर वजन की आवश्यकताओं के कारण लाइटर एल्यूमीनियम या टाइटेनियम वाष्प कक्ष का चयन करता है।

3. लागत को ध्यान में रखते हुए, उच्च-शक्ति आईजीबीटी आमतौर पर छोटे तांबे के कक्ष के साथ एल्यूमीनियम वाष्प कक्ष हीटसिंक या एल्यूमीनियम हीटसिंक का चयन करता है।

4. एलईडी प्रकाश व्यवस्था लागत विचार के लिए एल्यूमीनियम वाष्प कक्ष या भिगोने वाले स्तंभ का उपयोग करती है।

5. कम तापमान अनुप्रयोगों के लिए, एल्यूमीनियम या स्टेनलेस स्टील वाष्प कक्ष आमतौर पर थर्मल चालन या ताकत के लिए चुना जाता है।

6. उच्च तापमान अनुप्रयोगों के लिए, तांबे या स्टेनलेस स्टील वाष्प कक्ष को आमतौर पर थर्मल के लिए चुना जाता हैचालन या शक्ति।