वाष्प कक्ष 5 जी के लिए मुख्यधारा समाधान थर्मल समाधान बन गया है
Mar 21, 2024
प्रौद्योगिकी के विकास के साथ, इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के प्रदर्शन में सुधार जारी है, और आंतरिक उच्च-आवृत्ति और उच्च-शक्ति घटकों का अधिक व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। इसी समय, वॉल्यूम लगातार सिकुड़ रहा है और एकीकरण स्तर भी बढ़ रहा है। उपकरणों के संदर्भ में छोटे और छोटे होने के लिए, अधिक प्रदर्शन प्राप्त करने के लिए, गर्मी अपव्यय मुद्दों का सामना करना अपरिहार्य है।
वाष्प कक्ष एक प्लानर प्रारूप में दो चरण कूलिंग की उच्च गर्मी परिवहन क्षमताओं का लाभ उठाते हैं। यह वाष्प कक्ष विधानसभाओं को आदर्श घटकों को बनाता है जब एक बड़ी सतह पर उच्च गर्मी घनत्व या गर्मी भार फैलाता है। वाष्प कक्षों का उपयोग करके, आप बढ़े हुए और अधिक समान गर्मी फैलने की उम्मीद कर सकते हैं, जो हीट सिंक प्रदर्शन का अनुकूलन करते समय आदर्श है।
