वाष्प चैंबर सीपीयू कूलर

वाष्प कक्ष का उपयोग आमतौर पर इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों के लिए किया जाता है जिसके लिए कम मात्रा की आवश्यकता होती है या बड़ी गर्मी को जल्दी से समाप्त करने की आवश्यकता होती है। वर्तमान में, यह मुख्य रूप से सर्वर और हाई-एंड ग्राफिक्स डिवाइस जैसे उत्पादों में उपयोग किया जाता है। यह हीट पाइप कूलिंग विधि का एक मजबूत प्रतियोगी है। वाष्प कक्ष दिखने में एक सपाट प्लेट जैसी आकृति है, जिसमें एक दूसरे के ऊपर और नीचे कसकर एक आवरण होता है।

अंदर कॉपर पिलर सपोर्ट है। वाष्प कक्ष पर ऊपरी और निचली तांबे की चादरें ऑक्सीजन मुक्त तांबे से बनी होती हैं, आमतौर पर काम करने वाले तरल पदार्थ के रूप में शुद्ध पानी, और केशिका संरचना कॉपर पाउडर सिंटरिंग या तांबे की जाली की प्रक्रिया द्वारा बनाई जाती है। जब तक तापमान बराबर करने वाली प्लेट अपनी सपाट विशेषताओं को बनाए रखती है, बाहरी आकार का आकार गर्मी अपव्यय मॉड्यूल पर्यावरण के अनुप्रयोग पर निर्भर करता है, और उपयोग किए जाने पर प्लेसमेंट के कोण पर कोई प्रतिबंध नहीं होता है। वास्तविक अनुप्रयोग में, प्लेट पर किसी भी दो बिंदुओं पर मापा गया तापमान अंतर 10 डिग्री सेल्सियस से कम हो सकता है, जो गर्मी स्रोत पर गर्मी पाइप के गर्मी चालन प्रभाव से भी अधिक है, और समान तापमान प्लेट का नाम है अब से। सामान्य तापमान बराबर करने वाली प्लेट का थर्मल प्रतिरोध 0.25 ℃ / डब्ल्यू है, और इसे 0 ℃ ～ 150 ℃ पर लागू किया जाता है।

उत्पाद की जानकारी

वाष्प कक्ष का कार्य सिद्धांत

वाष्प कक्ष एक दो-चरण द्रव उपकरण है जो सूक्ष्म संरचनाओं से भरे कंटेनर में शुद्ध पानी डालकर बनता है। गर्मी बाहरी उच्च तापमान क्षेत्र से गर्मी चालन के माध्यम से प्लेट में प्रवेश करती है, और बिंदु गर्मी स्रोत के आसपास का पानी गर्मी को जल्दी से अवशोषित कर लेगा और भाप में वाष्पीकृत हो जाएगा, जिससे बड़ी मात्रा में गर्मी ऊर्जा दूर हो जाएगी। जलवाष्प की गुप्त ऊष्मा का पुन: उपयोग करना, जब प्लेट में वाष्प उच्च दाब क्षेत्र से निम्न दाब क्षेत्र (अर्थात निम्न तापमान क्षेत्र) में फैलती है, जब वाष्प निचले तापमान की भीतरी दीवार को छूती है, तो जलवाष्प जल्दी से संघनित हो जाएगा। एक तरल में और गर्मी ऊर्जा जारी करें। संघनित पानी सूक्ष्म संरचना की केशिका क्रिया द्वारा गर्मी स्रोत में वापस बहता है, एक गर्मी हस्तांतरण चक्र पूरा करता है, एक दो-चरण परिसंचरण प्रणाली बनाता है जिसमें पानी और भाप सह-अस्तित्व में होते हैं। एक समान तापमान प्लेट में पानी का वाष्पीकरण जारी रहता है, और तापमान में बदलाव के साथ गुहा में दबाव संतुलन बनाए रखेगा। जब पानी को कम तापमान पर संचालित किया जाता है तो उसका तापीय चालकता मूल्य कम होता है, लेकिन क्योंकि पानी की चिपचिपाहट तापमान के साथ बदलती है, भिगोने वाली प्लेट 5 डिग्री सेल्सियस या 10 डिग्री सेल्सियस पर भी काम कर सकती है। चूंकि तरल वापसी केशिका बल से प्रभावित होती है, वाष्प कक्ष गुरुत्वाकर्षण से कम प्रभावित होता है, और किसी भी कोण पर एप्लिकेशन सिस्टम डिज़ाइन स्पेस का उपयोग किया जा सकता है। तापमान बराबर करने वाली प्लेट को बिजली की आपूर्ति या किसी भी चलती घटकों की आवश्यकता नहीं होती है। यह पूरी तरह से सीलबंद पैसिव डिवाइस है।

हमारे बारे में

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